题目：纳米剪纸驱动的三维微纳制造技术及光子学应用

报告人：李家方教授（北京理工大学9999js金沙老品牌）

时间：2020年12月16日 18:30

地点：北航沙河校区国实C511

摘要：纳米精度的三维制造技术是当代光电子学和微纳光子学发展的重要基础，是我国亟待攻克的“卡脖子”技术之一。相比于半导体精密制造技术不到百年的发展历程，自然界分子乃至原子尺度的组装过程经过了亿万年的演化，可为微纳制造技术的发展提供一些有益的启示。例如，基于形变科学的剪纸和折纸技术近年来在科学界得到了广泛的重视，包括外太空飞行器的太阳能帆板折叠技术，微纳机电系统（MEMS/NEMS），性能特异的机械、生物和光学器件，乃至DNA纳米剪裁和折叠技术。我们基于中国传统的拉花剪纸思想，首次实现了纳米尺度的片上、原位、立体剪纸技术，突破了传统自下而上（bottom-up）、自上而下（top-down）、自组装等纳米加工方法在几何形貌方面的局限，成为一种新型的三维纳米制造方法。本报告将介绍纳米剪纸的概念及其从民间艺术到现代科学的演化，进一步介绍纳米剪纸三维结构在纳米光子学领域的应用，包括光学手性结构的精准制造和动态调控应用。

个人简介：李家方博士，北京理工大学教授、博导。2002与2005年分别于南开大学获学士、硕士学位，2009年于澳大利亚顾敏院士课题组获博士学位，同年在中科院物理所光物理实验室参加工作，2017年于麻省理工学院进行访问研究，2018年调入北京理工大学，2020年入选国家青年人才计划。研究聚焦于三维纳米制造技术，以及微纳尺度下光与物质的相互作用，2018年提出纳米剪纸三维微纳加工技术，2020年发展微纳应变光电子学新方向，在相关领域引起广泛关注，被新华网、Science Daily、MIT news等专门报导。研究成果在Sci. Adv., Adv. Mater., Light: Science & Applications, Nano Lett., Phys. Rev. Lett., Nat. Nanotech.等国内外期刊上发表文章70余篇，担任Scientific Reports杂志编委和《半导体学报》青年编委，是JACS、Nano Letters、Adv. Mater.、OSA、IOP、RSC系列二十余种期刊的长期审稿人。

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